[发明专利]一种导电膜的制作方法及导电膜在审
申请号: | 201910045074.X | 申请日: | 2019-01-17 |
公开(公告)号: | CN111446041A | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 周小红;基亮亮;刘麟跃;姚益明 | 申请(专利权)人: | 苏州维业达触控科技有限公司;苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 张媛 |
地址: | 215026 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种导电膜的制作方法,该导电膜包括基材、结构层和导电层,该方法包括:在结构层形成深度相同的多个凹槽;以及在多个凹槽内形成具有第一图形的第一导电层;在多个凹槽内形成具有第二图形的绝缘层;在绝缘层上形成具有第三图形的第二导电层;其中,第一图形与第三图形不相同,第三图形至少与第二图形的部分图形相同。本发明还公开一种导电膜,采用上述方法制作。通过将多个图形不相同的导电层在同一多个凹槽中制作,使各导电层的对位精度高,从而保证导电膜的使用效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 导电 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州维业达触控科技有限公司;苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学,未经苏州维业达触控科技有限公司;苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910045074.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于能量存储装置的隔膜
- 下一篇:基于巴甫洛夫条件反射的戒烟方法