[发明专利]一种导电膜的制作方法及导电膜在审

专利信息
申请号: 201910045074.X 申请日: 2019-01-17
公开(公告)号: CN111446041A 公开(公告)日: 2020-07-24
发明(设计)人: 周小红;基亮亮;刘麟跃;姚益明 申请(专利权)人: 苏州维业达触控科技有限公司;苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H01B5/14
代理公司: 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 代理人: 张媛
地址: 215026 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种导电膜的制作方法,该导电膜包括基材、结构层和导电层,该方法包括:在结构层形成深度相同的多个凹槽;以及在多个凹槽内形成具有第一图形的第一导电层;在多个凹槽内形成具有第二图形的绝缘层;在绝缘层上形成具有第三图形的第二导电层;其中,第一图形与第三图形不相同,第三图形至少与第二图形的部分图形相同。本发明还公开一种导电膜,采用上述方法制作。通过将多个图形不相同的导电层在同一多个凹槽中制作,使各导电层的对位精度高,从而保证导电膜的使用效果。
搜索关键词: 一种 导电 制作方法
【主权项】:
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