[发明专利]一种发光二极管用腐蚀清洗装置有效
申请号: | 201910049573.6 | 申请日: | 2019-01-18 |
公开(公告)号: | CN109860081B | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 邓博强 | 申请(专利权)人: | 枣庄市东行制冷设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L33/00;H01L51/56 |
代理公司: | 枣庄小度智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 37282 | 代理人: | 郑素娟 |
地址: | 277200 山东省枣庄市山亭*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开一种发光二极管用腐蚀清洗装置,包括壳体,壳体呈圆筒状,壳体顶部设置有五个圆筒状凹槽,壳体顶面的圆心处设置有一个凹槽,另外四个凹槽围于圆心处凹槽外侧,每个凹槽内固定有一个清洗管,每个凹槽一侧设置有支架,共五个支架,支架上固定有弹簧夹,共五个清洗管;本发明结构简单,通过减速电机带动中间的旋转杆旋转,通过主齿轮和辅助齿轮相互配合,利用旋转杆,从而带动五个清洗管转动,从而对多个发光二极管进行清洗,大幅度的提高了清洗效率,为工作人员提供了极大的方便。通过海绵对发光二极管进行清洗,海绵不仅能够对发光二极管进行清洗,还能为发光二极管提供保护,避免发光二极管在清洗过程中出现损伤。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光 二极 管用 腐蚀 清洗 装置 | ||
【主权项】:
1.一种发光二极管用腐蚀清洗装置,包括壳体(1),其特征在于:所述壳体(1)呈圆筒状,所述壳体(1)顶部设置有五个圆筒状凹槽,壳体(1)顶面的圆心处设置有一个凹槽,另外四个凹槽围于圆心处凹槽外侧,每个凹槽内固定有一个清洗管(2),每个凹槽一侧设置有支架(14),共五个支架(14),所述支架(14)上固定有弹簧夹(3),共五个清洗管(2),所述清洗管(2)为空心管,清洗管(2)的内壁填充有海绵(13),所述壳体(1)内设置有上隔板(6),所述上隔板(6)与壳体(1)顶部之间形成清洗腔(7),五个所述清洗管(2)设置在清洗腔(7)内,所述清洗腔(7)一侧设置有漏斗(5),所述漏斗(5)与清洗腔(7)之间通过进水管(4)连通,所述清洗腔(7)另一侧设置有排水管(18),所述排水管(18)与所述清洗腔(7)连通,所述排水管(18)上安装有排水阀(19),所述清洗管(2)底部连接有旋转杆(16),所述旋转杆(16)与防水轴承(15)卡合,所述防水轴承(15)设置在上隔板(6)底部,中间的旋转杆(16)上卡合有主齿轮(12),另外四个旋转杆(16)上卡合有辅助齿轮(11),中间的旋转杆(16)与减速电机(9)连接,所述减速电机(9)设置在下隔板(8)下方,所述减速电机(9)一侧设置有电源(10)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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