[发明专利]一种磁控溅射门防下垂辅助装置及方法有效
申请号: | 201910050990.2 | 申请日: | 2019-01-21 |
公开(公告)号: | CN109536910B | 公开(公告)日: | 2023-06-02 |
发明(设计)人: | 伍志军 | 申请(专利权)人: | 苏州赛森电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司 32261 | 代理人: | 高远 |
地址: | 215600 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种磁控溅射门防下垂辅助装置,涉及防下垂技术领域,包括连接体、辅助装置。连接体左端具有调整体,连接体右端固定在磁控溅射门上。辅助装置固定在磁控溅射设备上,连接体与辅助装置位于相对方向,调整体位于辅助装置内,辅助装置与调整体具有一定间隙,辅助说装置包括复位件,复位件具有导向面,复位件为刚性材料,复位件位于调整体一侧,复位件为弧形。本发明在打开或关闭磁控溅射门过程中,使得调整体刚性接触复位件对磁控溅射门进行复位,达到保证金属腔体的密封性的目的。其中,调整体和复位件接触过程极为短暂,只有在磁控溅射门密封时才进行接触,极大减小了调整体和复位件的摩擦,有利于长时间保证金属腔体密封性。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 下垂 辅助 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种磁控溅射门防下垂辅助装置,其中,包括:连接体,所述连接体一端具有调整体,所述连接体另一端固定在磁控溅射门上;辅助装置,所述调整体位于所述辅助装置内,所述辅助装置与所述调整体具有一定间隙,所述辅助装置包括:复位件,所述复位件具有导向面,所述复位件位于所述调整体一侧。
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