[发明专利]蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、及它们的制造方法有效
| 申请号： | 201910052563.8 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN109913802B | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 小幡胜也;武田利彦;川崎博司;西村佑行;真木淳;落合洋光;广部吉纪 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L21/673;H01L51/50 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 朴渊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种即使在大型化的情况下，也能够同时满足高精细化和轻质化二者，且可以在保持强度的同时形成高精细的蒸镀图案的蒸镀掩模；及可简便制造该蒸镀掩模的蒸镀掩模准备体或蒸镀掩模的制造方法；以及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。将设有缝隙(15)的金属掩模(10)、和在与缝隙(15)重合的位置设有与要蒸镀制作的图案相对应的开口部(25)的树脂掩模(20)叠层，金属掩模(10)具有设有缝隙(15)的一般区域(10a)、和壁厚厚于该一般区域的厚壁区域(10b)。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀掩模 框架 它们 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀掩模，其特征在于，所述蒸镀掩模叠层有金属层和树脂层，所述金属层具有由从其表面至背面的内壁面形成的空间规定的金属开口部，所述树脂层在与所述金属开口部重叠的位置具有形成蒸镀图案所需的多个树脂开口部，所述金属层具有一般区域和比所述一般区域厚的厚壁区域，所述金属开口部位于所述金属层的所述一般区域内的一部分，所述厚壁区域至少位于一部分所述树脂开口部彼此之间。
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