[发明专利]光子调制管理系统有效
申请号: | 201910053753.1 | 申请日: | 2014-03-05 |
公开(公告)号: | CN109924024B | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 乔恩·达朗·松季赫 | 申请(专利权)人: | 现特技术有限公司 |
主分类号: | G09G5/00 | 分类号: | G09G5/00;A01G7/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 康建峰;陈炜 |
地址: | 美国科*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了光子调制管理系统。本文描述的实施方案提供了用于通过控制对有机体(122)的光子爆发(202、204)的占空比、波长带和频率来优化有机体生长、破坏或修复的系统,所述控制是通过对用于所述有机体的单个色彩光谱的光子的高频调制,其中所述光子调制基于所述有机体的特定需求。还提供用于通过对用于所述有机体的单个色彩光谱的光子的高频调制来优化有机体生长、破坏或修复的设备。进一步提供用于通过使用对单个色彩光谱的光子的高频调制来优化有机体生长、破坏或修复的方法。 | ||
搜索关键词: | 光子 调制 管理 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于增强有机体的生长、破坏或修复的系统,其包括:至少一个光子发射器,其与至少一个光子发射调制控制器通信;其中所述至少一个光子发射器被配置来发射至少一个第一光子脉冲,其中所述至少一个第一光子脉冲具有持续时间、强度、波长带和占空比;其中所述至少一个光子发射器被配置来发射至少一个额外光子脉冲,其中所述至少一个额外光子脉冲具有持续时间、强度、波长带和占空比,其中所述至少一个额外光子脉冲的所述持续时间、强度、波长带和占空比不同于所述至少一个第一光子脉冲的所述持续时间、强度、波长带和占空比;其中所述至少一个光子发射调制控制器控制来自所述光子发射器的光子的所述发射;并且其中所述至少一个第一光子脉冲和所述至少一个额外光子脉冲诱发所述有机体中的期望反应。
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