[发明专利]一种强效去污多晶硅片用清洗液及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910054813.1 申请日: 2019-01-21
公开(公告)号: CN109777653A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 李广森 申请(专利权)人: 安徽华顺半导体发展有限公司
主分类号: C11D1/83 分类号: C11D1/83;C11D3/04;C11D3/32;C11D3/33;C11D3/37;C11D3/20;C11D3/60
代理公司: 合肥汇融专利代理有限公司 34141 代理人: 张雁
地址: 239300 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种强效去污多晶硅片用清洗液及其制备方法,涉及多晶硅生产技术领域。所述清洗液由以下重量份的原料制成:二辛基琥珀酸磺酸钠4‑6份、二异辛基丁二酸酯磺酸钠2‑4份、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠6‑8份、硬脂酸甘油酯8‑10份、聚氧乙烯烷基醇酰胺1‑3份、氢氧化钠1‑2份、螯合剂0.6‑0.8份、交联剂0.3‑0.5份、增稠剂1‑2份、增溶剂0.8‑1.0份、消泡剂1.2‑1.4份、去离子水200‑240份。本发明克服了现有技术的不足,能够有效分解硅片上的油污并且去除粘附的杂物和切割残留的碎屑,从而有效提高清洗液的去污能力,各组分有效结合,清洗更加精细化,清洗效果好,清洗液去污能力强,适宜推广。
搜索关键词: 清洗液 多晶硅片 去污能力 去污 制备 脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠 二辛基琥珀酸磺酸钠 聚氧乙烯烷基醇酰胺 丁二酸酯磺酸钠 硬脂酸甘油酯 多晶硅生产 氢氧化钠 清洗效果 去离子水 有效结合 交联剂 精细化 消泡剂 异辛基 增稠剂 增溶剂 粘附的 重量份 螯合剂 硅片 油污 去除 碎屑 切割 清洗 杂物 残留 分解
【主权项】:
1.一种强效去污多晶硅片用清洗液,其特征在于,所述清洗液由以下重量份的原料制成:二辛基琥珀酸磺酸钠4‑6份、二异辛基丁二酸酯磺酸钠2‑4份、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠6‑8份、硬脂酸甘油酯8‑10份、聚氧乙烯烷基醇酰胺1‑3份、氢氧化钠1‑2份、螯合剂0.6‑0.8份、交联剂0.3‑0.5份、增稠剂1‑2份、增溶剂0.8‑1.0份、消泡剂1.2‑1.4份、去离子水200‑240份。
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