[发明专利]一种基于离子注入技术的微纳颗粒二维图形化吸附工艺

摘要

本发明公开了一种基于离子注入技术的微纳颗粒二维图形化吸附工艺，通过在材料表面覆盖掩膜，注入不同种类的金属离子，并调节合适的吸附组装环境，将材料浸入胶体颗粒溶液中静置，经过提拉平放于桌面自然干燥后，在静电作用下实现不同种类的微/纳米颗粒的正/反图形化吸附。此外，基于对图形化形成过程的规律探索，通过改变胶体颗粒溶液的张力参数，实现了不同尺度从均匀图案到点阵的图形化工作。本发明依靠离子束对材料固有的表面电位的调控，实现灵活自由的图形化吸附，过程简单易行，并且掩膜可重复循环利用，适合材料表面大面积图形化微纳加工。

主权项

1.一种基于离子注入技术的微纳颗粒二维图形化吸附工艺，其特征在于，通过在材料表面覆盖掩膜，注入不同种类的离子，并调节材料表面的zeta电位，在合适的吸附组装环境中，胶体溶液中的不同种类微/纳米颗粒在材料表面实现正/反图形化吸附，所述吸附工艺具体包括如下：步骤一：在盖有掩膜的材料表面注入不同种类的离子；步骤二：室温条件下通过升降台浸渍提拉的方法，将步骤一选择性注入的材料浸没在待吸附的胶体颗粒溶液中垂直静置0.5～60min，之后匀速提拉、平放，经过液相蒸发过程，胶体颗粒最终在材料表面形成本发明公开的微纳颗粒二维吸附图形。