[发明专利]一种高可靠性的氮化物发光二极管及其制备方法有效
申请号: | 201910055991.6 | 申请日: | 2019-01-22 |
公开(公告)号: | CN109817771B | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 顾伟 | 申请(专利权)人: | 江西兆驰半导体有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/06;H01L33/24;H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 330000 江西省南昌市南昌高新技*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明公开了一种高可靠性的氮化物发光二极管及其制备方法,包括衬底,以及依次位于衬底上的缓冲层、非掺杂氮化物层、n型氮化物层、具有v型缺陷的有源层、AlN量子点和p型氮化物层;其中:所述AlN量子点位于所述具有v型缺陷的有源层和所述p型氮化物层之间,所述AlN量子点至少沉积在所述具有v型缺陷的有源层的v型缺陷斜面的端点,且不沉积在所述具有v型缺陷的有源层的非v型缺陷平面。本发明的优点在于:通过在有源层的v型缺陷上沉积AlN量子点,阻挡v型缺陷造成发光二极管的漏电通道,提高氮化物发光二极管器件的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 可靠性 氮化物 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高可靠性的氮化物发光二极管,包括衬底,以及依次位于衬底上的缓冲层、非掺杂氮化物层、n型氮化物层、具有v型缺陷的有源层、AlN量子点和p型氮化物层;其特征在于:所述AlN量子点位于所述具有v型缺陷的有源层和所述p型氮化物层之间,所述AlN量子点至少沉积在所述具有v型缺陷的有源层的v型缺陷斜面的端点,且不沉积在所述具有v型缺陷的有源层的非v型缺陷平面。
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