[发明专利]一种可见光宽波段吸收器及其制作方法

摘要

本发明公开了一种可见光宽波段吸收器及其制作方法，属于集成光电子领域，主要涉及结构‑光场调控技术、光谱技术、纳米加工技术等。该器件主要包括基底3，置于基底3上的光刻胶周期性纳米结构2，以及沉积于两者之上的可见光高吸收材料层1。基底3为吸收器结构提供刚性支撑；周期性纳米结构2为增强共振吸收提供条件；高吸收材料介质层1可增强电磁共振能量吸收，在可见光范围内，折射率虚部系数k>4的材料对入射光具有很高的吸收效率；高吸收材料侧壁1‑2可进一步将入射光局域在微纳结构内部，提高吸收效率；通过优化周期性纳米结构的几何尺寸，可以实现对可见光范围内的宽波段完美吸收，吸收率高达90％以上，覆盖整个可见光范围，且具有偏振无关、入射角不敏感等特性。

主权项

1.一种可见光宽波段吸收器，其特征在于，主要包括基底3，置于基底3上的光刻胶周期性纳米结构2，以及沉积于两者之上的可见光高吸收材料层1；所述光刻胶周期性纳米结构2为周期性纳米柱阵列。所述可见光高吸收材料层1包括直接沉积在基底3上的高吸收材料底层1‑3、直接沉积在光刻胶周期性纳米结构2上的高吸收材料纳米柱1‑1、以及附着在光刻胶周期性纳米结构2外周的高吸收材料侧壁1‑2；所述高吸收材料底层1‑3和高吸收材料纳米柱1‑1的厚度t与光刻胶周期性纳米结构2的厚度h满足：h>t。