[发明专利]三维半导体装置在审

专利信息
申请号: 201910057460.0 申请日: 2019-01-22
公开(公告)号: CN110098191A 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 郑恩宅;李星勳 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11526 分类号: H01L27/11526;H01L27/11548;H01L27/11556;H01L27/11573;H01L27/11575;H01L27/11582;H01L21/768
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 陈晓博;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种三维半导体装置,所述三维半导体装置包括:外围电路结构,设置在第一基底与第二基底之间并且包括多个外围互连件;栅极堆叠结构,设置在第二基底上并且包括在垂直于第二基底的上表面的方向上堆叠且彼此分隔开的多个栅电极,其中,所述多个栅电极包括下栅电极、设置在下栅电极上的多个中间栅电极以及设置在所述多个中间栅电极上的上栅电极;第一通过区,穿过第二基底并且设置在栅极堆叠结构下方;第二通过区,穿过第二基底和栅极堆叠结构;以及第一外围连接插塞,穿过第一通过区并且使下栅电极电连接到外围互连件的第一外围互连件。
搜索关键词: 基底 栅电极 三维半导体装置 栅极堆叠结构 互连件 外围 穿过 下栅 电极电连接 连接插塞 上栅电极 外围电路 上表面 电极 堆叠 分隔 垂直
【主权项】:
1.一种三维半导体装置,所述三维半导体装置包括:外围电路结构,设置在第一基底与第二基底之间并且包括多个外围互连件;栅极堆叠结构,设置在所述第二基底上并且包括在垂直于所述第二基底的上表面的方向上堆叠且彼此分隔开的多个栅电极,其中,所述多个栅电极包括下栅电极、设置在所述下栅电极上的多个中间栅电极以及设置在所述多个中间栅电极上的上栅电极;第一通过区,穿过所述第二基底并且设置在所述栅极堆叠结构下方;第二通过区,穿过所述第二基底和所述栅极堆叠结构;以及第一外围连接插塞,穿过所述第一通过区并且使所述下栅电极电连接到所述外围互连件的第一外围互连件。
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