[发明专利]一种用于显示面板和半导体领域的水基型光刻胶剥离液有效
申请号: | 201910061476.9 | 申请日: | 2019-01-23 |
公开(公告)号: | CN109634071B | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 刘小勇;颜如彩;田博 | 申请(专利权)人: | 福建省佑达环保材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 362100 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于显示面板和半导体领域的水基型光刻胶剥离液,包括25%‑40%的高沸点醇醚类水溶性有机溶剂,15%‑35%的酰胺类有机溶剂,5%‑15%的醇胺类化合物,2%‑8%的gemini型烷基糖苷类表面活性剂,0.1%‑5%缓蚀剂,10%‑40%的水。该水基型光刻胶剥离液组合物能有效提高剥离液的剥离速度和持久性,操作窗口大,同时能大大降低对基底和Cu金属的腐蚀作用;同时该表面活性剂具有很强的润湿、渗透性能,能有效提高剥离液的剥离性能,同时该表面活性剂存在一定的抗腐蚀性,与缓蚀剂形成能较好的协同作用,防止基底和Cu金属布线腐蚀的产生。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 显示 面板 半导体 领域 水基型 光刻 剥离 | ||
【主权项】:
1.一种用于显示面板和半导体领域的水基型光刻胶剥离液,其特征在于:包括以下质量百分比组分:含量为25%‑40%的高沸点醇醚类水溶性有机溶剂,15%‑35%的酰胺类有机溶剂,5%‑15%的醇胺类化合物,2%‑8%的gemini型烷基糖苷类表面活性剂,0.1%‑5%的缓蚀剂,10%‑40%的水;总质量分数之和为100%。
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