[发明专利]芯片版图设计规则检查方法在审
| 申请号： | 201910061589.9 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN109885888A | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | 周喆 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种芯片版图设计规则检查方法，包含：第1步，根据设计规则确定模块边缘版图的大小；第2步，提取包含全部有效层的模块边缘版图数据；第3步，检查并修复边缘版图中违反设计规则的版图数据；第4步，完成边缘版图制作，合并到芯片版图中运行DRC。本发明所述的芯片版图设计规则检查方法，仅保留模块版图四周的版图数据，可以大大减少参与DRC演算的数据量，达到减少DRC运行时间。 | ||
| 搜索关键词： | 芯片版图 设计规则检查 版图数据 模块边缘 设计规则 演算 数据量 有效层 修复 合并 保留 制作 违反 检查 | ||
【主权项】：
1.一种芯片版图设计规则检查方法，其特征在于：包含如下的步骤：第1步，根据设计规则确定模块的边缘版图的大小；第2步，提取模块的边缘版图数据；第3步，检查并修复边缘版图中违反设计规则的版图数据；第4步，完成边缘版图制作，合并到芯片版图中运行DRC。
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