[发明专利]一种镜像对称光学涡旋光阱掩模板的设计方法有效
申请号: | 201910062168.8 | 申请日: | 2019-01-24 |
公开(公告)号: | CN109828370B | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 李新忠;马海祥;李懋 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G21K1/00 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 王学鹏 |
地址: | 471000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: |
一种镜像对称光学涡旋光阱掩模板的设计方法,步骤如下:步骤一、结合一个经过非对称复合相位操作的螺旋相位因子、一个径向能流因子和一个初相因子,得到该涡旋光束掩模板的复透过率函数 |
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搜索关键词: | 一种 对称 光学 涡旋 光阱掩 模板 设计 方法 | ||
【主权项】:
1.一种镜像对称光学涡旋光阱掩模板的设计方法,其特征在于:步骤一、结合一个经过非对称复合相位操作的螺旋相位因子、一个径向能流因子和一个初相因子,得到该涡旋光束掩模板的复透过率函数E,其复透过率函数表达式为:
其中,Ev为经过非对称复合相位操作的螺旋相位因子;Ea径向能流因子,可在远场提供一个径向的能流分量;
为初相因子,增加镜像对称光学涡旋光阱的可调控性;步骤二、将上述复透过率函数E与闪耀光栅叠加得到镜像对称光学涡旋光阱掩模板,其表达式为
其中,circ(ρ<P)为一个环形光阑,用以给掩模板一个径向的截止,参数P决定光阑大小;angle(.)表示取相位操作;x为直角坐标;D为闪耀光栅周期。
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