[发明专利]一种基于LIGBT的双栅控制采样器件有效
申请号: | 201910062231.8 | 申请日: | 2019-01-23 |
公开(公告)号: | CN109801962B | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 李泽宏;杨洋;彭鑫;赵一尚;程然;何云娇 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
代理公司: | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 敖欢;葛启函 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供一种基于LIGBT的双栅控制采样器件,其元胞结构包括第一导电类型半导体衬底、衬底金属电极、外延氧化层、第二导电类型半导体漂移区、第二导电类型半导体掺杂区、第一导电类型半导体阳极区、第二金属电极、第一导电类型半导体体区、氧化层、金属栅极、第一导电类型半导体体区、第二导电类型半导体阴极区、第一个第二导电类型半导体掺杂区、第一导电类型半导体掺杂区、第二个第二导电类型半导体掺杂区、第一导电类型半导体阴极区、第三金属电极、第四金属电极、第五金属电极、第一金属电极,器件在导通状态可以实现对流经器件的电流进行采样,关断瞬态可以实现对阳极电压的检测,电流采样与电压采样交替进行,且采样精度高,采样比可控。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 ligbt 控制 采样 器件 | ||
【主权项】:
1.一种基于LIGBT的双栅控制采样器件,其元胞结构包括第一导电类型半导体衬底(1)和位于第一导电类型半导体衬底(1)下表面的衬底金属电极(19);所述第一导电类型半导体衬底(1)上表面具有外延氧化层(2);所述外延氧化层(2)上表面具有第二导电类型半导体漂移区(3);所述第二导电类型半导体漂移区(3)中具有第二导电类型半导体掺杂区(4);所述第二导电类型半导体掺杂区(4)中具有第一导电类型半导体阳极区(5),所述第一导电类型半导体阳极区(5)上表面具有第二金属电极(11);所述第二导电类型半导体漂移区(3)中具有第一导电类型半导体体区(13);所述第一导电类型半导体体区(13)上表面具有氧化层(12);所述氧化层(12)中具有金属栅极(14);所述第二导电类型半导体漂移区(3)中右侧具有第一导电类型半导体体区(18);其特征在于:所述第一导电类型半导体体区(18)中具有第二导电类型半导体阴极区(6),第二导电类型半导体阴极区(6)右侧从左至右依次设置第一个第二导电类型半导体掺杂区(7)、第一导电类型半导体掺杂区(8)、第二个第二导电类型半导体掺杂区(7)、第一导电类型半导体阴极区(9);第二导电类型半导体阴极区(6)和第一个第二导电类型半导体掺杂区(7)之间设有间隙,第一个第二导电类型半导体掺杂区(7)、第一导电类型半导体掺杂区(8)、第二个第二导电类型半导体掺杂区(7)之间相邻设置,所述第二导电类型半导体阴极区(6)上表面具有第三金属电极(15);所述第二导电类型半导体掺杂区(7)上表面具有第四金属电极(16);所述第一导电类型半导体掺杂区(8)上表面具有第五金属电极(17),所述第一导电类型半导体阴极区(9)上表面具有第一金属电极(10)。
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