[发明专利]加热的陶瓷面板在审
申请号: | 201910064123.4 | 申请日: | 2019-01-23 |
公开(公告)号: | CN110071057A | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
发明(设计)人: | 张宇星;K·阿拉亚瓦里;K·高希;S·巴录佳;D·黄 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;C23C16/455 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯颖媖;钱慰民 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本文的实施方式涉及用于处理腔室中的气体分配的设备。更具体地,本公开内容的方面涉及一种陶瓷面板。所述面板一般具有陶瓷主体。在所述面板主体的上表面中形成凹槽。多个孔隙穿过面板在所述凹槽中形成。在所述凹槽中可选地设置加热器以加热所述面板。 | ||
搜索关键词: | 陶瓷面板 加热 加热器 处理腔室 面板主体 气体分配 陶瓷主体 上表面 可选 穿过 | ||
【主权项】:
1.一种用于处理基板的面板,包括:主体,由陶瓷材料形成,所述主体包括:顶表面;第一底表面;第二底表面;第三底表面,在所述第一底表面与所述第二底表面之间延伸;和外表面,在所述顶表面与所述第一底表面之间延伸;凹槽,形成在所述顶表面中;和多个孔隙,形成在所述凹槽与所述第二底表面之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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