[发明专利]一种陶瓷构件的后处理工艺在审
| 申请号： | 201910064558.9 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN109848763A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 肖华军;邹倩;陆青;肖坦;江涛;牛文明;马建立 | 申请（专利权）人： | 深圳光韵达光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B31/02;B24B31/12;B24B31/14 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 黄议本 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种陶瓷构件的后处理工艺，包括粗磨阶段和抛光阶段，所述粗磨阶段包括：将高频瓷磨料、碳化硅粉末、表面活性剂和水放入球磨容器中进行搅拌；将陶瓷构件埋入所述球磨容器中；将所述球磨容器固定在球磨机上以设定的转速旋转设定的时间，取出所述陶瓷构件和所述高频瓷磨料进行清洗；所述抛光阶段包括：将高频瓷磨料、金刚石粉末、表面活性剂和水放入球磨容器中进行搅拌；将陶瓷构件埋入所述球磨容器中；将所述球磨容器固定在球磨机上以设定的转速旋转设定的时间，取出所述陶瓷构件进行清洗。大幅度降低了陶瓷构件的表面粗糙度，使陶瓷构件获得良好的表面形貌。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷构件 球磨容器 磨料 高频瓷 球磨机 表面活性剂 后处理 抛光阶段 粗磨 埋入 清洗 取出 表面粗糙度 金刚石粉末 碳化硅粉末 表面形貌 | ||
【主权项】：
1.一种陶瓷构件的后处理工艺，其特征在于包括粗磨阶段和抛光阶段，所述粗磨阶段包括：将高频瓷磨料、碳化硅粉末、表面活性剂和水放入球磨容器中进行搅拌，其中，所述碳化硅粉末的重量为所述高频瓷磨料的重量的5％至20％，所述表面活性剂的重量为所述高频瓷磨料的重量的1％至5％，所述水溢过放置在所述球磨容器中的成分；将陶瓷构件埋入所述球磨容器中；将所述球磨容器固定在球磨机上以设定的转速旋转设定的时间，取出所述陶瓷构件进行清洗；所述抛光阶段包括：将高频瓷磨料、金刚石粉末、表面活性剂和水放入球磨容器中进行搅拌，其中，所述金刚石粉末的重量为所述高频瓷磨料的重量的0.5％至5％，所述表面活性剂的重量为所述高频瓷磨料的重量的1％至5％，所述水溢过放置在所述球磨容器中的成分；将陶瓷构件埋入所述球磨容器中；将所述球磨容器固定在球磨机上以设定的转速旋转设定的时间，取出所述陶瓷构件进行清洗。
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