[发明专利]一种基于超快激光刻蚀的LTCC基板制作方法在审

专利信息
申请号: 201910065071.2 申请日: 2019-01-23
公开(公告)号: CN109905970A 公开(公告)日: 2019-06-18
发明(设计)人: 陈宁;肖刚;于慧游;王博哲 申请(专利权)人: 西安微电子技术研究所
主分类号: H05K3/02 分类号: H05K3/02;H05K3/12
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于半导体混合集成电路技术领域,涉及一种基于超快激光刻蚀的LTCC基板制作方法,基于传统的LTCC基板丝网印刷工艺,在生瓷片完成导体布线印刷后,对其进行第一次超快激光刻蚀;在LTCC基板烧结完成后,对烧结后的熟瓷片的导体布线进行第二次超快激光刻蚀;第一次超快激光刻蚀有导体布线宽度精度刻蚀、厚度精度刻蚀以及通孔填充精度刻蚀三种方式,可按照实际要求选择进行。本发明基于LTCC基板丝网印刷工艺,通过加入两次超快激光刻蚀,提高了导体阻抗加工精度,使刻蚀后的导体布线达到精度要求。
搜索关键词: 刻蚀 超快激光 导体布线 丝网印刷工艺 烧结 瓷片 混合集成电路 导体阻抗 精度要求 通孔填充 传统的 制作 半导体 印刷 加工
【主权项】:
1.一种基于超快激光刻蚀的LTCC基板制作方法,其特征在于,在生瓷片完成导体布线印刷后,对其进行第一次超快激光刻蚀;在生瓷片烧结完成后,对烧结后的LTCC陶瓷片的导体布线进行第二次超快激光刻蚀。
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