[发明专利]一种基于超快激光刻蚀的LTCC基板制作方法在审
申请号: | 201910065071.2 | 申请日: | 2019-01-23 |
公开(公告)号: | CN109905970A | 公开(公告)日: | 2019-06-18 |
发明(设计)人: | 陈宁;肖刚;于慧游;王博哲 | 申请(专利权)人: | 西安微电子技术研究所 |
主分类号: | H05K3/02 | 分类号: | H05K3/02;H05K3/12 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 徐文权 |
地址: | 710065 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明属于半导体混合集成电路技术领域,涉及一种基于超快激光刻蚀的LTCC基板制作方法,基于传统的LTCC基板丝网印刷工艺,在生瓷片完成导体布线印刷后,对其进行第一次超快激光刻蚀;在LTCC基板烧结完成后,对烧结后的熟瓷片的导体布线进行第二次超快激光刻蚀;第一次超快激光刻蚀有导体布线宽度精度刻蚀、厚度精度刻蚀以及通孔填充精度刻蚀三种方式,可按照实际要求选择进行。本发明基于LTCC基板丝网印刷工艺,通过加入两次超快激光刻蚀,提高了导体阻抗加工精度,使刻蚀后的导体布线达到精度要求。 | ||
搜索关键词: | 刻蚀 超快激光 导体布线 丝网印刷工艺 烧结 瓷片 混合集成电路 导体阻抗 精度要求 通孔填充 传统的 制作 半导体 印刷 加工 | ||
【主权项】:
1.一种基于超快激光刻蚀的LTCC基板制作方法,其特征在于,在生瓷片完成导体布线印刷后,对其进行第一次超快激光刻蚀;在生瓷片烧结完成后,对烧结后的LTCC陶瓷片的导体布线进行第二次超快激光刻蚀。
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