[发明专利]非对称峰值掺杂的二硫化钼隧穿场效应管在审

专利信息
申请号: 201910068192.2 申请日: 2019-01-24
公开(公告)号: CN110010681A 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: 王伟;吴警;魏凤华;丰媛媛 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/26;H01L29/10;B82Y10/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210046 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种非对称峰值掺杂的二硫化钼隧穿场效应管,包括半导体衬底、本征二硫化钼纳米条带、源极、漏极以及两个栅极,在半导体衬底上从临近源极一端向临近漏极一端依次为P型重掺杂区、非对称峰值掺杂区、本征二硫化钼纳米条带和N型重掺杂区,通过施加电场使源区和漏区之间形成导电沟道,两个栅极分别位于沟道的两侧,用于控制沟道中的电流,在沟道和栅极之间还设有栅氧化层。本发明具有较大的开关电流比、较低的漏电流、较小的次阈值摆动、较高的截止频率和较小的延迟时间,因此具有更优秀的栅极控制能力和开关特性,能有效抑制短沟道效应和热载流子效应。
搜索关键词: 二硫化钼 非对称 沟道 场效应管 掺杂的 本征 衬底 漏极 隧穿 条带 源极 半导体 热载流子效应 栅极控制能力 短沟道效应 开关电流比 电场 导电沟道 截止频率 开关特性 有效抑制 栅氧化层 掺杂区 漏电流 摆动 漏区 源区 延迟 施加
【主权项】:
1.一种非对称峰值掺杂的二硫化钼隧穿场效应管,其特征在于,包括半导体衬底、本征二硫化钼纳米条带(1)、源极(S)、漏极(D)以及两个栅极(G),在半导体衬底上从临近源极(S)一端向临近漏极(D)一端依次为P型重掺杂区(2)、非对称峰值掺杂区(3)、本征二硫化钼纳米条带(1)和N型重掺杂区(4),通过施加电场使源区(S)和漏区(D)之间形成导电沟道,两个栅极(G)分别位于沟道的两侧,用于控制沟道中的电流,在沟道和栅极(G)之间还设有栅氧化层。
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