[发明专利]清洁方法及微影设备有效
| 申请号： | 201910069153.4 | 申请日： | 2019-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN110716393B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 吴旻政;廖啟宏 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种清洁方法及微影设备。清洁方法包括将黏性结构移动至晶圆工作台以使得晶圆工作台上的第一微粒黏附至黏性结构；在第一微粒黏附至黏性结构之后移动黏性结构远离晶圆工作台；以及在移动黏性结构远离晶圆工作台之后对由晶圆工作台固持的晶圆执行微影制程。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种清洁方法，其特征在于，包含：/n将一黏性结构移动至一晶圆工作台使得该晶圆工作台上的一第一微粒黏附至该黏性结构；/n在该第一微粒黏附至该黏性结构之后，移动该黏性结构远离该晶圆工作台；以及/n在移动该黏性结构远离该晶圆工作台之后，对由该晶圆工作台固持的一晶圆执行一微影制程。/n
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