[发明专利]荧光增强型纳米探针及其制备方法以及岩石微纳米孔隙的光学显微镜成像方法在审
| 申请号： | 201910069641.5 | 申请日： | 2019-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN109765205A | 公开（公告）日： | 2019-05-17 |
| 发明（设计）人： | 李娜;廖鹏;罗玉兰;李崇瑛 | 申请（专利权）人： | 成都理工大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 宋南 |
| 地址： | 610000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种荧光增强型纳米探针及其制备方法以及岩石微纳米孔隙的光学显微镜成像方法，该纳米探针包括：纳米粒子、二氧化硅改性层以及荧光染料，二氧化硅改性层附着于纳米粒子表面；荧光染料键合于二氧化硅改性层的表面。该岩石微纳米孔隙的光学显微镜成像方法，其包括：将上述荧光增强型纳米探针注入岩石的裂缝和孔隙中；对充填有所述荧光增强型纳米探针的岩石的孔隙进行光学显微镜成像。将该荧光增强型纳米探针注入岩石，荧光分子不易逸散，与岩石基质及胶结物颜色有明显差异，在光学显微镜下对于孔隙和喉道的识别非常有利，且该荧光增强型纳米探针能长期使用而不考虑荧光性随时间减弱的影响，可长期、准确、方便地反映出岩石的孔隙结构。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米探针 荧光增强型 光学显微镜 岩石 二氧化硅改性 成像 微纳米 荧光染料 制备 纳米粒子表面 孔隙结构 纳米粒子 岩石基质 荧光分子 胶结物 荧光性 充填 附着 喉道 键合 逸散 裂缝 | ||
【主权项】：
1.一种荧光增强型纳米探针，其特征在于，其包括：纳米粒子；二氧化硅改性层，所述二氧化硅改性层附着于所述纳米粒子表面；荧光染料，所述荧光染料键合于所述二氧化硅改性层的表面。
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