[发明专利]一种石墨烯透明电极及其功函数调控方法在审

专利信息
申请号: 201910071604.8 申请日: 2019-01-25
公开(公告)号: CN109817828A 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 邵丽;王仲勋;史浩飞;李华峰 申请(专利权)人: 重庆石墨烯研究院有限公司;重庆墨希科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 赵荣之
地址: 401329 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及一种石墨烯透明电极及其功函数调控方法,属于材料技术领域。该方法包括如下步骤:预处理透明基材;在透明基材上镀一层超薄铜层;通过CVD法在超薄铜层表面生长石墨烯层;利用离子溅射法在石墨烯层上形成金属薄膜层;最后沉积减反增透层。本发明利用超薄铜箔直接生长石墨烯,省去了石墨烯的转移步骤;在此基础上,选择调控金属薄膜层的功函数小于或大于石墨烯的功函数,配合减反增透层,实现了在保证透过率的前提下,解决石墨烯透明电极的功函数和表面电阻两大关键问题。该石墨烯透明电极的稳定性好,可广泛应用于电致发光器件、太阳能电池、光电探测器等电子信息领域。
搜索关键词: 石墨烯 功函数 透明电极 金属薄膜层 石墨烯层 透明基材 增透层 调控 材料技术领域 电致发光器件 电子信息领域 预处理 光电探测器 太阳能电池 表面电阻 超薄铜箔 关键问题 离子溅射 铜层表面 直接生长 透过率 沉积 铜层 生长 配合 应用 保证
【主权项】:
1.一种石墨烯透明电极,其特征在于:包括依次连接的透明基材、超薄铜层、石墨烯层、金属薄膜层;所述透明基材上镀有超薄铜层;所述超薄铜层表面形成石墨烯层;所述石墨烯层表面沉积有金属薄膜层。
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