[发明专利]光投射方法和装置有效

专利信息
申请号: 201910073212.5 申请日: 2019-01-25
公开(公告)号: CN110727050B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 吕方璐 申请(专利权)人: 深圳市光鉴科技有限公司
主分类号: G02B6/124 分类号: G02B6/124;G02B6/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200135 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种光投射方法和装置,包括第一表面和第二表面的波导器件。所述第一表面包括第一光栅结构。所述波导器件构造为引导耦合入光束在第一表面和第二表面之间进行全内反射。所述第一光栅结构构造为干扰全内反射以使得至少部分耦合入光束从波导器件耦合出来并从第一表面投射出去,从波导器件耦合出的这部分耦合入光束形成耦合出光束,所述耦合出光束配置为在耦合出光束投射的表面上形成点阵。
搜索关键词: 投射 方法 装置
【主权项】:
1.一种波导器件,包括第一表面、第二表面、第四表面和光吸收材料层,其中:/n所述第一表面包括第一光栅结构;/n所述波导器件构造为引导耦合入光束在第一表面和第二表面之间进行全内反射;/n第一光栅结构构造为干扰全内反射以使得至少部分耦合入光束从波导器件耦合出来并从第一表面投射出去,从波导器件耦合出的这部分耦合入光束形成耦合出光束;/n所述耦合入光束经全内反射后的其余部分到达第四表面;及/n所述光吸收材料层与第二表面平行且通过间隙与第二表面隔离。/n
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