[发明专利]一种基于电阻抗测量的HIFU系统及使用方法

摘要

本发明公开了一种基于电阻抗测量的HIFU系统，涉及高强度聚焦超声技术领域，包括HIFU本体和阻抗测量系统，所述阻抗测量系统通过体表复合电极测量所述HIFU本体工作时被测对象在第一频率和第二频率下的电阻抗，判断HIFU的治疗效果并降低接触电阻影响。本发明还公开了所述HIFU系统的使用方法，基于所测的第一频率下的低频电阻抗和第二频率下的高频电阻抗，阻抗测量系统通过HIFU启动瞬间低频电阻抗的变化量，治疗期间高频电阻抗与低频电阻抗的比值，判断HIFU系统在靶区的超声功率是否正常、靶区温度上升是否正常、细胞凝固性坏死是否发生。本发明公布的HIFU系统及使用方法，安全、无创、快速、准确性高，且避免了传统方法无法实时检测HIFU期间靶区组织的温度。

主权项

1.一种基于电阻抗测量的HIFU系统，包括HIFU本体和阻抗测量系统，所述阻抗测量系统被配置为测量所述HIFU本体工作时被测对象包含靶区的体域的电阻抗，其特征在于，所述阻抗测量系统包括电阻抗测量电极、电阻抗测量系统、上位机；所述电阻抗测量系统分别连接所述上位机和所述电阻抗测量电极，所述电阻抗测量电极被配置为采集被测对象测量部位的电信号；所述电阻抗测量系统被配置为受所述上位机的控制，通过所述电阻抗测量电极，测量靶区在第一频率下的低频电阻抗和第二频率下的高频电阻抗并实时传输至所述上位机；所述上位机被配置为基于所述电阻抗测量系统反馈的低频电阻抗和高频电阻抗，判断所述HIFU本体在体内的超声功率是否正常、靶区温度是否上升正常、细胞凝固性坏死是否发生。