[发明专利]一种贫脊山坡地苗木种植土壤改良方法在审
| 申请号： | 201910078765.X | 申请日： | 2019-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN109644608A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 严过房;罗伟聪;董运常;汪晓丽;黄勇;欧阳文文;符敏 | 申请（专利权）人： | 广州华苑园林股份有限公司 |
| 主分类号： | A01B79/02 | 分类号： | A01B79/02 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 颜希文;朱燕华 |
| 地址： | 510000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种贫脊山坡地苗木种植土壤改良方法，其包括：(1)清理地表的杂草芒萁，将其堆放一旁备用，然后挖种植穴，将挖出的表土和心土分开放置，晾晒7～15天；(2)第一层铺放杂草芒萁，厚度为种植穴深度的15％～20％，洒上生石灰；(3)第二层铺放表土，厚度为种植穴深度的15％～20％；(4)第三层铺放配方土，厚度为种植穴深度的15％～20％，所述配方土包括配方肥和心土；(5)第四层铺放心土，厚度为种植穴深度的15％～20％；(6)第五层铺放配方土，厚度为种植穴深度的5％～10％，所述配方土与第三层的配方土相同；(7)表层覆盖心土。以本发明改良后的土壤种植的苗木生长快速，生长整齐度高，苗木质量好，出圃时间短，出圃率高。 | ||
| 搜索关键词： | 种植穴 配方土 铺放 土壤改良 心土 苗木种植 表土 第三层 山坡地 芒萁 贫脊 杂草 表层覆盖 分开放置 苗木生长 土壤种植 出圃率 第一层 配方肥 生石灰 整齐度 出圃 挖出 晾晒 备用 地表 堆放 苗木 改良 生长 | ||
【主权项】：
1.一种贫脊山坡地苗木种植土壤改良方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)清理地表的杂草芒萁，将其堆放一旁备用，然后挖种植穴，将挖出的表土和心土分开放置，晾晒7～15天；(2)第一层铺放杂草芒萁，厚度为种植穴深度的15％～20％，洒上生石灰；(3)第二层铺放表土，厚度为种植穴深度的15％～20％；(4)第三层铺放配方土，厚度为种植穴深度的15％～20％，所述配方土包括配方肥和心土；(5)第四层铺放心土，厚度为种植穴深度的15％～20％；(6)第五层铺放配方土，厚度为种植穴深度的5％～10％，所述配方土与第三层的配方土相同；(7)表层覆盖心土。
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