[发明专利]背光插黑优化方法、装置、介质及电子设备有效
申请号: | 201910079415.5 | 申请日: | 2019-01-28 |
公开(公告)号: | CN109637463B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 李茜;陆原介;苗京花;赵斌;李文宇;王雪丰;孙玉坤;彭金豹;李治富;范清文;索健文;张浩;陈丽莉;孙建康;王立新;郭子强 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G09G3/34 | 分类号: | G09G3/34 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开涉及电数据处理技术领域,具体涉及一种背光插黑优化方法、装置、介质和电子设备。所述方法应用于可穿戴智能设备;其中,所述方法包括:获取所述可穿戴智能设备的当前显示模式;获取所述可穿戴智能设备的当前运动状态;根据所述当前显示模式和所述当前运动状态生成控制信号以调节所述可穿戴智能设备的背光插黑。本公开提供的技术方案能够根据可穿戴智能设备的显示模式和运动状态进行背光插黑优化,从而可以减少背光源中的背光灯的开启关闭次数。 | ||
搜索关键词: | 背光 优化 方法 装置 介质 电子设备 | ||
【主权项】:
1.一种背光插黑优化方法,其特征在于,所述方法应用于可穿戴智能设备;其中,所述方法包括:获取所述可穿戴智能设备的当前显示模式;获取所述可穿戴智能设备的当前运动状态;根据所述当前显示模式和所述当前运动状态生成控制信号以调节所述可穿戴智能设备的背光插黑。
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