[发明专利]一种Magneli相氧化钛介孔表面的制备方法在审
申请号: | 201910079744.X | 申请日: | 2019-01-28 |
公开(公告)号: | CN109701510A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 曾和平;冯光 | 申请(专利权)人: | 广东朗研科技有限公司;上海朗研光电科技有限公司;华东师范大学 |
主分类号: | B01J21/06 | 分类号: | B01J21/06;B01J35/10;B01J37/34 |
代理公司: | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人: | 赵超群 |
地址: | 523808 广东省东莞市松山湖高新技术*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及无机纳米材料科学技术领域,具体涉及一种Magneli相氧化钛介孔表面的制备方法,首先将作为阳极的钛基材浸没在电解液中,然后在阴极和阳极之间施加一定电压,在电解液中进行阴极辉光放电产生等离子体;等离子体电解水产生氢原子、高能电子,对等离子体附近的物质进行原位氢化还原处理;等离子体还原处理与阳极氧化反应的协同作用,诱导钛基材表面逐渐生长出Magneli相氧化钛介孔;规定放电时间结束后,钛基材表面产生一定厚度的灰色Magneli相氧化钛介孔薄层,即所述的Magneli相氧化钛介孔表面。通过等离子体还原处理与阳极氧化反应的协同作用,在钛基材表面诱导生长Magneli相氧化钛介孔结构。 | ||
搜索关键词: | 氧化钛 介孔 等离子体 钛基材表面 等离子体还原 阳极氧化反应 阴极 阳极 电解液 制备 科学技术领域 无机纳米材料 高能电子 还原处理 辉光放电 介孔结构 时间结束 诱导生长 电解水 氢原子 原位氢 钛基材 浸没 放电 薄层 诱导 施加 生长 | ||
【主权项】:
1.一种Magneli相氧化钛介孔表面的制备方法,其特征在于:首先将作为阳极的钛基材浸没在电解液中,并将阴极基材的末端浸没于电解液中,然后在阴极和阳极之间施加一定电压,在电解液中进行阴极辉光放电产生等离子体;等离子体电解水产生氢原子、高能电子,对等离子体附近的物质进行原位氢化还原处理;等离子体还原处理与阳极氧化反应的协同作用,诱导钛基材表面逐渐生长出Magneli相氧化钛介孔;规定放电时间结束后,钛基材表面产生一定厚度的灰色Magneli相氧化钛介孔薄层,即所述的Magneli相氧化钛介孔表面。
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