[发明专利]一种能谱可调的本地二次荧光辐射装置在审
| 申请号： | 201910079930.3 | 申请日： | 2019-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN109738474A | 公开（公告）日： | 2019-05-10 |
| 发明（设计）人： | 程钊 | 申请（专利权）人： | 深圳市纳诺艾医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/2251 | 分类号： | G01N23/2251 |
| 代理公司： | 常州易瑞智新专利代理事务所(普通合伙) 32338 | 代理人： | 徐琳淞 |
| 地址： | 518129 广东省深圳市龙岗区坂*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种能谱可调的本地二次荧光辐射装置，包括电子发射器、靶材和磁场方向可调的磁场发生机构；所述电子发射器用于发射电子束击打靶材；所述磁场发生机构设置在电子束的发射路径上，用于影响电子束在靶材上的焦点位置。本发明通过磁场发生机构的磁场变换以改变靶材上焦点的位置，能够简洁有效的进行能谱的调节，得到多种能谱的变化，一次操作可以实现多种能量的多次曝光成像，便于后续的进行多种复杂的图像处理。 | ||
| 搜索关键词： | 能谱 磁场发生机构 可调的 靶材 电子束 电子发射器 荧光辐射 影响电子束 磁场变换 磁场方向 发射路径 焦点位置 曝光成像 图像处理 一次操作 发射 焦点 | ||
【主权项】：
1.一种能谱可调的本地二次荧光辐射装置，其特征在于：包括电子发射器、靶材(1)和磁场方向可调的磁场发生机构(2)；所述电子发射器用于发射电子束击打靶材(1)；所述磁场发生机构(2)设置在电子束的发射路径上，用于影响电子束在靶材(1)上的焦点位置。
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