[发明专利]发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管有效

专利信息
申请号: 201910080000.X 申请日: 2019-01-28
公开(公告)号: CN109920890B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 曹阳;乔楠;郭炳磊;吕蒙普;胡加辉;李鹏 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/12;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 322000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管,属于外延技术领域。该所述发光二极管外延片包括:衬底、以及依次层叠于所述衬底上的氮化镓缓冲层、未掺杂氮化镓层、N型掺杂氮化镓层、N型铝镓氮层、多量子阱层、P型复合层、P型掺杂氮化镓层和P型接触层;所述P型复合层包括:位于所述多量子阱层上的高温氮化铝子层,位于所述高温氮化铝层上的铝镓氮子层,以及位于所述铝镓氮子层上的含铟的氮化物子层,所述P型掺杂氮化镓层位于所述含铟的氮化物子层上。通过包含三个子层的P型复合层,一方面提升了电子阻挡的效果,另一方面保证了空穴的顺利通过。
搜索关键词: 发光二极管 外延 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种发光二极管外延片,所述发光二极管外延片包括:衬底、以及依次层叠于所述衬底上的氮化镓缓冲层、未掺杂氮化镓层、N型掺杂氮化镓层、N型铝镓氮层、多量子阱层、P型复合层、P型掺杂氮化镓层和P型接触层;其特征在于,所述P型复合层包括:位于所述多量子阱层上的高温氮化铝子层,位于所述高温氮化铝层上的铝镓氮子层,以及位于所述铝镓氮子层上的含铟的氮化物子层,所述P型掺杂氮化镓层位于所述含铟的氮化物子层上。
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