[发明专利]一种实时的轮廓精细化抠像方法及存储介质有效
申请号: | 201910080114.4 | 申请日: | 2019-01-28 |
公开(公告)号: | CN109934843B | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 向晶;王行;李骊;周晓军;盛赞;李朔;杨淼 | 申请(专利权)人: | 北京华捷艾米科技有限公司 |
主分类号: | G06T7/194 | 分类号: | G06T7/194 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 100093 北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种实时的轮廓精细化抠像方法及存储介质,该抠像方法获取先验前背景知识,沿着前景的轮廓建立缓冲区掩膜从而可粗略地得到前景范围;将缓冲区掩膜数据下采样到一定比例;结合缓冲区掩膜数据,基于速度优化以及添加人物轮廓形状先验的Grabcut算法对彩色图进行分割,得到该尺度的分割结果;将分割结果上采样到与原始数据相同的分辨率,实现抠图。本发明对原始Grabcut算法进行了优化,优化后的算法速度提升了30%,分割出的轮廓鲁棒性较强,不受周围梯度较大的物体影响,基本沿着真实的目标轮廓走,并且本发明不需要人机交互,在高分辨率视频流下,不依赖昂贵的GPU,可实时提取出人物前景,并能保证边缘的精细。 | ||
搜索关键词: | 一种 实时 轮廓 精细 化抠像 方法 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种实时的轮廓精细化抠像方法,包括如下步骤:缓冲区掩膜建立步骤S110:获取待抠像处理的实时视频流,并根据一定的规则标记目标的初始前景轮廓,并根据所述前景轮廓建立缓冲区掩膜,在所述缓冲区中轮廓内为确定的前景,缓冲区与轮廓之间为不确定区域,缓冲区外为确定的背景像素;速度优化后的前背景建模步骤S120:根据视频图像中的彩色图和所述缓冲区掩膜,统计前景区域中彩色的最大值和最小值,根据前背景GMM中的模型个数,对彩色的最大值和最小值之间的差值进行划分,得到每个GMM模型的初始中心点,根据所述初始中心点统计每个GMM模型的参数,以及类别间的权重,并迭代更新GMM模型,得到最终的前景模型参数;目标形状先验添加步骤S130:构建梯度链,并且统计缓冲区内不确定点的目标轮廓方向值,将每个不确定点的目标轮廓方向值以一定的权重添加到N链计算中,以保证在约束到梯度最大的同时保证是沿着目标轮廓方向的;最大流最小割算法图像分割步骤S140:利用最大流最小割算法对图像进行解算分割,确定缓冲区内不确定区域中不确定点的前景标识,得到精细化后的前景掩膜;抠像步骤S150:利用精细化后的前景掩膜结合彩色图像进行目标抠像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华捷艾米科技有限公司,未经北京华捷艾米科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910080114.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。