[发明专利]具有AlGaN/GaN异质结的垂直型场效应晶体管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201910080193.9 申请日: 2019-01-28
公开(公告)号: CN109904216B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 段宝兴;王彦东;杨珞云;杨银堂 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/20;H01L21/335;H01L29/778
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 胡乐
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出了一种具有AlGaN/GaN异质结的垂直型场效应晶体管及其制作方法。该器件具有两个特点:一是将AlGaN/GaN异质结形成的二维电子气用于形成器件的横向低阻导电通道;二是在器件漂移区中引入纵向低阻导电通道。器件关断时,由于二维电子气引入了新的电荷,改变了器件中的电场分布,提高了击穿电压,同时缓解了击穿电压与漂移区浓度之间的矛盾关系。器件导通时,由于新的导电通道改变了传统垂直型场效应晶体管的电流分布,使得在漂移区浓度较低的情况下也能实现较低的导通电阻。结合以上优势,在相同漂移区长度的情况下,本发明具有更高的耐压和更低的导通损耗。
搜索关键词: 具有 algan gan 异质结 垂直 场效应 晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
1.具有AlGaN/GaN异质结的垂直型场效应晶体管,包括:半导体材料的衬底,兼作漏区;在衬底上外延生长形成的N型GaN外延层,作为漂移区;分别在漂移区上部的左、右两端区域形成的两处P型基区(9);每一处P型基区(9)中形成沟道以及N+型源区(2)和P+沟道衬底接触(1),其中N+型源区(2)与沟道邻接,P+沟道衬底接触(1)相对于N+型源区(2)位于沟道远端;栅介质层(3),覆盖两处P型基区(9)相应的沟道部分;栅极(7),位于栅氧化层上表面;源极(8),覆盖两处P+沟道衬底接触(1)与相应N+型源区(2)相接区域的上表面;漏极(12),位于衬底下表面;其特征在于:所述漂移区分为:在衬底上外延生长的轻掺杂漂移区(10);在轻掺杂漂移区(10)中部通过离子注入形成的重掺杂漂移区(13);对应于器件中部,在重掺杂漂移区(13)及其两侧邻接的轻掺杂漂移区(10)部分的表面异质外延生长有ALGaN层(4),使得AlGaN/GaN异质结能够产生二维电子气,形成器件的横向低阻导电通道,并且在漂移区中引入纵向低阻导电通道;ALGaN层表面设置有源介质层(6),满足覆盖二维电子气的界面,源介质层(6)设置有第三处源极(5),三处源极共接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910080193.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top