[发明专利]双异质结光敏二极管及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910088614.2 申请日: 2019-01-28
公开(公告)号: CN109873046B 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 刘兴钊;范旭东;潘棋;任羿烜;代天军;罗文博;张万里;李言荣 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/032;H01L31/18
代理公司: 成都惠迪专利事务所(普通合伙) 51215 代理人: 刘勋
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 双异质结光敏二极管及制备方法,属于电子信息材料与元器件领域,本发明的双异质结光敏二极管,其特征在于,包括自下而上顺序设置的单晶基片、第一硫族化合物层、窄禁带半导体材料层、第二硫族化合物层,窄禁带半导体材料层覆盖第一硫族化合物层上表面的局部,第一硫族化合物层的上表面和第二硫族化合物层的上表面各设置有电极;所述窄禁带半导体的材料包含Pb1‑xSnxSe或Pb1‑xSnxTe,其中0≤x≤1;所述第一硫族化合物层的材料包含Mo1‑yWySe2,其中0≤y≤1;所述第二硫族化合物层的材料包含HfzZr1‑zSe2,其中0≤z≤1。本发明具有优良光电响应特性。
搜索关键词: 双异质结 光敏 二极管 制备 方法
【主权项】:
1.双异质结光敏二极管,其特征在于,包括自下而上顺序设置的单晶基片、第一硫族化合物层、窄禁带半导体材料层、第二硫族化合物层,窄禁带半导体材料层覆盖第一硫族化合物层上表面的局部,第一硫族化合物层的上表面和第二硫族化合物层的上表面各设置有电极;所述窄禁带半导体的材料包含Pb1‑xSnxSe或Pb1‑xSnxTe,其中0≤x≤1;所述第一硫族化合物层的材料包含Mo1‑yWySe2,其中0≤y≤1;所述第二硫族化合物层的材料包含HfzZr1‑zSe2,其中0≤z≤1。
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