[发明专利]一种曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201910089791.2 | 申请日： | 2019-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN109557772B | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 詹敏 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人： | 孟潭 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供了一种曝光装置及曝光方法，解决了在曝光过程中由于涂胶不均或在低压腔室抽真空的速率不均匀，而造成曝光后基板的部分区域线宽会偏大或偏小，导致基板线宽的误差范围较大，从而影响产品的成品率的问题。包括：曝光机构，构造为向待曝光器件发射曝光光线；承载机构，设置在所述曝光机构发射所述曝光光线的方向上，构造为承载所述待曝光器件；以及反射模组，设置于所述待曝光器件远离所述曝光机构的一侧，构造为反射透过所述待曝光器件的所述曝光光线。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：曝光机构，构造为向待曝光器件发射曝光光线；承载机构，设置在所述曝光机构发射所述曝光光线的方向上，构造为承载所述待曝光器件；以及反射模组，设置于所述待曝光器件远离所述曝光机构的一侧，构造为反射透过所述待曝光器件的所述曝光光线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司，未经昆山国显光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910089791.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
