[发明专利]用于CVD设备的双轴正交旋转系统及方法有效
申请号: | 201910090661.0 | 申请日: | 2019-01-30 |
公开(公告)号: | CN109763116B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 李贺军;李博;张雨雷;刘宁坤;姚西媛;付前刚;史小红 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 陈星 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明一种用于CVD设备的双轴正交旋转系统,包括CVD沉积炉炉体、石墨保温管、加热体、旋转轴、套筒、构件夹具和旋转动力装置;三个所述旋转动力装置分别通过三个所述旋转轴与设置于所述CVD沉积炉炉体内的所述构件夹具连接;所述旋转动力装置用于给整个系统提供动力,并控制所述旋转轴的旋转速度和伸缩位置,进一步控制所述构件夹具绕X轴旋转或绕Z轴旋转;在不同的沉积阶段采用不同的旋转方向,可以对复杂形状构件的沉积不足之处进行更大程度的补偿。采用不同的旋转速度,可以改善构件周围气体相对于构件的流速分布状态,使相对流动速度分布最有利于获得均匀沉积。 | ||
搜索关键词: | 用于 cvd 设备 正交 旋转 系统 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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