[发明专利]用于通过光聚合添加制备的成形体的后处理装置在审
申请号: | 201910090836.8 | 申请日: | 2019-01-30 |
公开(公告)号: | CN110116501A | 公开(公告)日: | 2019-08-13 |
发明(设计)人: | J·亨德里克 | 申请(专利权)人: | 义获嘉伟瓦登特公司 |
主分类号: | B29C64/35 | 分类号: | B29C64/35;B29C64/379;B33Y40/00;A61C13/00 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 郭广迅;李渤 |
地址: | 列支敦*** | 国省代码: | 列支敦士登;LI |
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摘要: | 本发明涉及用于通过光聚合添加制备的成形体的后处理装置,其中在壳体(2)中,清洁站(22)容纳在下部(20)中,精加工站(42)容纳在上部(40)中,所述下部和上部可通过具有封闭件(24)的通道彼此连接,具有垂直引导件(46)和固定件(48)的垂直提升装置(44)贯穿精加工站,成形体(1)可固定到固定件(48),整合到壳体中的控制装置(4)设置成使得在成形体(1)定位在固定件上并且封闭件(24)打开后,提升装置(44)使成形体降低到清洁站(22)的盆(26)中;控制清洁站以清洁成形体;在完成清洁站(22)的操作后,用提升装置(44)使成形体(1)移位进入精加工站(42);关闭通道的封闭件(24),控制精加工站(24)进行后曝光。 | ||
搜索关键词: | 成形体 清洁站 精加工 封闭件 固定件 后处理装置 提升装置 光聚合 壳体 制备 垂直提升装置 容纳 垂直引导件 彼此连接 控制装置 可固定 移位 整合 曝光 清洁 贯穿 | ||
【主权项】:
1.一种用于通过光聚合添加制备的成形体的后处理装置,其具有用于清洁成形体的清洁站和用于成形体的后曝光的精加工站,其特征在于,所述清洁站和所述精加工站容纳在壳体(2)中,所述壳体(2)能够站立在水平支架表面上,其中所述清洁站(22)容纳在下部(20)中,并且所述精加工站(42)容纳在垂直位于所述下部(20)上方的上部(40)中,其中所述下部和上部可以通过具有可以打开的封闭件(24)的通道彼此连接,其特征在于具有垂直引导件(46)和在其上可垂直移位的固定件(48)的垂直提升装置(44)延伸通过所述精加工站以便于能够在清洁站(22)和精加工站(42)之间来回输送所述成形体,所述成形体(1)可以直接或间接固定到所述固定件(48),其特征在于整合到壳体中的控制装置(4)设置成:控制该提升装置(44)的运行、封闭件(24)的运行以及清洁和精加工站的运行,使得在成形体(1)已经定位在固定件上之后并且在封闭件(24)已经打开之后,所述提升装置(44)使成形体降低到所述清洁站(22)的盆(26)中;控制清洁站的运行用于清洁成形体;在完成清洁站(22)的运行后,使用所述提升装置(44)使所述成形体(1)向上移位进入精加工站(42);关闭所述通道的所述封闭件(24),然后控制所述精加工站(24)的运行用于后曝光。
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