[发明专利]用于OPC验证的验证图形的量化分析方法有效

专利信息
申请号: 201910098268.6 申请日: 2019-01-31
公开(公告)号: CN109857881B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 冯佳计;金晓亮 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G06F16/532 分类号: G06F16/532;G03F1/36
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种用于OPC验证的验证图形的量化分析方法,包括步骤:步骤一、创建验证图形的图形索引并存入数据库;步骤二、统计错误点,截取比对图形块,计算特征值,创建各特征值对应的错误点索引;将错误点索引、对应的比对图形块和特征值存入数据库;步骤三、进行统计分析,包括:步骤31、搜索错误点索引,统计得到各特征值相应的频次列表;步骤32、将频次列表归一化,进行二维积分计算得到特征值的分布值;步骤四、生成测试图形,包括:步骤41、根据特征值的分布值,得到错误点索引矩阵;步骤42、采用蒙特卡洛抽样,得到一组错误点索引,寻找对应的对比图形块并生成所述测试图形。本发明能省时省力并更为精准的提升OPC制程。
搜索关键词: 用于 opc 验证 图形 量化 分析 方法
【主权项】:
1.一种用于OPC验证的验证图形的量化分析方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、创建验证图形的图形索引并存入数据库;所述图形索引指向了所采用的所有所述验证图形;步骤二、统计所有所述验证图形中存在的错误点,以对应的所述错误点为中心坐标点,在所述错误点对应的所述验证图形中截取比对图形块,计算所述比对图形块的特征值,创建各所述错误点对应的所述比对图形块的所述特征值对应的错误点索引;将所述错误点索引和各所述比对图形块以及对应的特征值都存入数据库;步骤三、对所述数据库中的数据进行统计分析,包括如下分步骤:步骤31、搜索所述错误点索引,统计得到各所述特征值相应的频次列表;步骤32、将所述特征值的频次列表归一化,进行二维积分计算得到对应的所述特征值的分布值;步骤四、生成测试图形,包括如下分步骤:步骤41、根据所述特征值的分布值,得到所述错误点索引的矩阵;步骤42、采用蒙特卡洛抽样,在所述错误点索引的矩阵中得到一组所述错误点索引,根据所得到的一组所述错误点索引在所述数据库中寻找对应的所述对比图形块并将所述对比图形块按一定的阵列生成所述测试图形。
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