[发明专利]离子注入装置及测定装置有效
| 申请号： | 201910102055.6 | 申请日： | 2019-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN110137067B | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 井门德安;狩谷宏行;大浦正英 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子科技株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/244 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 朴勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种离子注入装置及测定装置。本发明实现离子束的角度分布的评价的高速化。本发明的测定装置(50)包括：多个狭缝(74a～74c)，使离子束入射；束电流测定部(54)，设置于从多个狭缝沿射束行进方向分离的位置；及测定控制部。束电流测定部(54)构成为能够在与射束行进方向正交的第1方向的位置不同的多个测定位置测定束电流。多个狭缝(74a～74c)以第1方向与狭缝宽度方向一致的方式沿第1方向隔着间隔配置，且以沿第1方向可移动的方式构成。测定控制部一边使多个狭缝沿第1方向移动，一边获取通过束电流测定部在第1方向的位置不同的多个测定位置测定的多个束电流值。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 测定 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入装置，其特征在于，具备：束线装置，输送照射至晶圆的离子束；及测定装置，测定所述离子束的角度信息，所述测定装置包括：多个狭缝，使所述离子束入射；束电流测定部，设置于从所述多个狭缝沿射束行进方向分离的位置；及测定控制部，所述束电流测定部构成为能够在与所述射束行进方向正交的第1方向的位置不同的多个测定位置测定束电流，所述多个狭缝以所述第1方向与狭缝宽度方向一致的方式沿所述第1方向隔着间隔配置，且以沿所述第1方向能够移动的方式构成，所述测定控制部一边使所述多个狭缝沿所述第1方向移动，一边获取通过所述束电流测定部在所述第1方向的位置不同的多个测定位置测定的多个束电流值。
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