[发明专利]一种基于掩模版拐角圆化的计算光刻方法及装置

摘要

本申请公开了一种基于掩模版拐角圆化的计算光刻方法及装置，在获取晶圆表面的光强分布之前，通过圆化处理图形对预先设计的理想的掩模版图形进行圆化处理，获取掩模版的几何图形，通过理想的掩模版图形以及圆化处理图形在频域上的响应函数，获取几何图形的响应函数，根据几何图形的响应函数，计算晶圆表面光强分布。相较于现有技术，本申请中的计算光刻方法所使用的圆化处理图形的一边为圆弧边，通过圆化处理图形对掩模版图形的拐角进行处理之后，能够有效消除与实际光刻工艺中圆化的拐角之间的偏差，保证了计算光刻结果的精确度。

主权项

1.一种基于掩模版拐角圆化的计算光刻方法，其特征在于，包括：获取圆化处理图形以及预先设计的掩模版图形，其中，所述掩模版图形为理想的掩模版图形，所述圆化处理图形用于对所述掩模版图形进行圆化处理，所述圆化处理图形中包括圆弧边；根据所述掩模版图形，通过傅里叶变换，获取第一响应函数，所述第一响应函数为所述掩模版图形在频域上的响应函数；根据所述圆化处理图形，通过傅里叶变换，获取第二响应函数，所述第二响应函数为所述圆化处理图形在频域上的响应函数；根据所述掩模版图形，获取所述掩模版图形中的拐角，并标识所述拐角的类型，所述拐角的类型包括凸角以及凹角；根据所述拐角的类型，将所述圆化处理图形增加到所述掩模版图形中，对所述掩模版进行圆化处理；根据圆化处理后的掩模版，获取所述圆化处理后的掩模版中包括的几何图形；根据所述第一响应函数以及所述第二响应函数，获取第三响应函数，所述第三响应函数为所述几何图形在频域上的响应函数；根据所述第三响应函数，获取晶圆表面的光强分布。