[发明专利]基板处理装置

摘要

提供一种基板处理装置。可靠地进行需要区域的气氛调整，同时削减气氛调整用气体使用量。基板处理装置具备：处理单元，其对基板实施处理；输送空间，其在容器输入输出部与处理单元间输送基板；基板输送机构，其在输送空间内容器输入输出部与处理单元间输送基板；第1气体供给路径，其向处理单元供给气氛调整气体；第1气体排出路径，其从处理单元排出气氛调整气体；循环路径，其与输送空间连接，使从输送空间流出的气氛调整气体返回输送空间；第2气体供给路径，其向由输送空间和循环路径构成的循环系统供给气氛调整气体；及第2气体排出路径，其从循环系统排出气氛调整气体。

主权项

1.一种基板处理装置，其具备：容器输入输出部，其供收容有基板的基板输送容器载置；处理单元，其对所述基板实施处理；输送空间，其用于在所述容器输入输出部与所述处理单元之间输送基板；基板输送机构，其在所述输送空间内在所述容器输入输出部与所述处理单元之间输送所述基板；第1气体供给路径，其用于向所述处理单元供给气氛调整气体；第1气体排出路径，其用于从所述处理单元排出所述气氛调整气体；循环路径，其与所述输送空间连接，使从所述输送空间流出来的所述气氛调整气体返回所述输送空间；第2气体供给路径，其用于向由所述输送空间和所述循环路径构成的循环系统供给所述气氛调整气体；以及第2气体排出路径，其用于从所述循环系统排出所述气氛调整气体。