[发明专利]一种Hf/TiBx 有效
申请号: | 201910108864.8 | 申请日: | 2019-02-03 |
公开(公告)号: | CN109666912B | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 荣铭聪 | 申请(专利权)人: | 广州大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/02 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 颜希文;宋静娜 |
地址: | 510000 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明提供一种采用物理气相沉积方法在镁合金表面沉积膜‑基结合力强、导电性好、耐腐蚀Hf/TiB |
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搜索关键词: | 一种 hf tib base sub | ||
【主权项】:
1.一种镀有Hf/TiBx多层涂层的镁合金,其特征在于:所述镁合金包括镁合金基体和涂层,所述涂层由一层Hf过渡层、多层TiBx插入层和多层Hf插入层构成,所述Hf过渡层沉积于所述镁合金基体的表面,所述TiBx插入层和Hf插入层依次交替沉积于所述Hf过渡层的表面,所述TiBx插入层层数与Hf插入层数相同,所述TiBx插入层层数≥1。
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