[发明专利]MIHA纯气动操作条件下传质调控模型建模方法有效
申请号: | 201910109144.3 | 申请日: | 2019-02-04 |
公开(公告)号: | CN109887551B | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | 张志炳;周政;田洪舟;刘颖;李磊;张锋 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | G16C20/10 | 分类号: | G16C20/10 |
代理公司: | 江苏致邦律师事务所 32230 | 代理人: | 徐蓓;尹妍 |
地址: | 210023 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及MIHA纯气动操作条件下传质调控模型建模方法,通过分析纯气动条件下气泡生成过程,建立气泡破碎器内的能量转化模型;基于气泡破碎器内的能量转化模型和液体循环,计算液体流量,获取气液强烈混合区能量耗散率、气泡尺度,最终获取传质计算模型。本发明的方法针对MIHA建立了纯气动操作条件下传质调控模型,综合反映了反应器结构、体系物性以及操作参数、以及输入能量对传质的影响,可实现对反应器设计及MIHA的反应体系设计的指导,指导设计高效的反应器结构和反应体系。 | ||
搜索关键词: | miha 气动 操作 条件下 传质 调控 模型 建模 方法 | ||
【主权项】:
1.一种MIHA纯气动操作条件下传质调控模型建模方法,其特征在于,包括如下步骤:S100建立MIHA纯气动操作条件下微气泡上升速度模型;假设气泡和反应器内液体均竖直向上运动,反应器内的气泡平均上升速度v32基于下式计算:
其中v0、vG和vL分别为气泡sauter平均直径为d32的气泡在无限大静止液体中的上升速度、表观气速和表观液速;对于v0,基于下式计算:
其中,ρL和σL分别为液体密度和界面张力,Mo为Morton数,de为当量直径,Kb为方程参数;对于MIHA体系,取c=1.4,n=0.8;
de=d32(ρLg/σL)1/2 (4)Kb=Kb0Mo‑0.038 (5)其中,μL为液体动力粘度;对于MIHA体系,取Kb0=10.2;对于vG和vL,基于下式计算:vG=4QG/πD02 (6)vL=4QL/πD02 (7)其中,QG为进气流量,QL为气泡破碎器中的液体循环流量,D0为反应器直径;S200建立MIHA纯气动操作条件下气相传质系数kG模型,如下:
其中,d32为气泡sauter平均直径,t32为气泡在反应器内的停留时间,DG为气体在液体中的气相扩散系数;
其中,H0为反应器内初始液面高度,φG为气泡破碎器内气含率;
气相扩散系数DG基于Chapman‑Enskog动理论的方程预测,如下:
其中,MA和MB分别为气体和液体的摩尔质量,T为反应器内温度,PG为气泡内气体压力;忽略气泡内液体的饱和蒸气压时,PG近似等于液面上方的操作压力Pm;υi为分子扩散体积;S300建立MIHA纯气动操作条件下液相传质系数kL模型,如下:依据Higbie渗透理论及速度滑移理论所定义的表面更新时间,kL基于下式计算:
其中,νs为气泡与其周围液体间的滑移速度,DL为液相扩散系数;
DL基于Stokes‑Einstein修正公式计算:
其中,DAB为气体溶质A在溶剂B中的扩散系数,μB为B的粘度,VA为A在正常沸点时的摩尔体积,依据实际气体的van der Waals对比态方程近似计算:
其中,Pc、Tc、VA,C分别为A的临界压力、临界温度及临界摩尔体积;P,T分别为体系实际压力和温度;基于式(8)、(12)、(14)获取MIHA纯气动操作条件下传质调控模型。
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