[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201910110932.4 申请日: 2019-02-12
公开(公告)号: CN111552090A 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 罗宗仁;廖志成;刘士豪;吕武羲;罗明城;钟伟纶;林志威 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: G02B27/30 分类号: G02B27/30;G06K9/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王涛;任默闻
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种半导体装置,包含基板与光准直层。基板具有多个像素。光准直层设置于基板之上,且光准直层包含透明材料层、第一遮光层、第二遮光层及多个透明柱体。透明材料层覆盖像素。第一遮光层设置于基板之上,且第一遮光层具有对应于像素的多个引线孔。第二遮光层设置于第一遮光层之上。透明柱体设置于第二遮光层中。本发明可以避免或减少透明柱体发生倒塌的情况,同时使光准直层保有良好的准直效能。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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