[发明专利]分光分析装置有效
申请号: | 201910116522.0 | 申请日: | 2019-02-15 |
公开(公告)号: | CN110160988B | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 间健太郎;松尾纯一;菊谷信子;杉山裕弥 | 申请(专利权)人: | 横河电机株式会社 |
主分类号: | G01N21/39 | 分类号: | G01N21/39;G01N21/01 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 即使在设置场所中受到由共振造成的影响的情况下,仍进行测定对象的流体的分析。分光分析装置具有:激光光源部,其朝向在插入至测定对象流体的流路的探针内设置的反射体,照射出波长变化的激光;受光部,其对由所述反射体反射出的所述激光进行受光;以及控制部,其进行使用了所述受光部的受光结果的所述测定对象流体的分析和所述激光光源部的控制,所述控制部对所述激光光源部的激光输出进行控制,以使得遍及一定波长范围对从所述激光光源部照射的所述激光的波长进行扫描所需的时间即扫描时间,小于或等于在所述反射体反射出的所述激光向所述受光部照射的照射时间。 | ||
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【主权项】:
1.一种分光分析装置,其具有:激光光源部,其朝向在插入至测定对象流体的流路的探针内设置的反射体,照射出波长变化的激光;受光部,其对由所述反射体反射出的所述激光进行受光;以及控制部,其进行使用了所述受光部的受光结果的所述测定对象流体的分析、和所述激光光源部的控制,所述控制部对所述激光光源部的激光输出进行控制,以使得遍及一定波长范围对从所述激光光源部照射的所述激光的波长进行扫描所需的时间即扫描时间,小于或等于在所述反射体反射出的所述激光向所述受光部照射的照射时间。
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