[发明专利]一种单光子探测器在审
申请号: | 201910116935.9 | 申请日: | 2019-02-15 |
公开(公告)号: | CN109768153A | 公开(公告)日: | 2019-05-17 |
发明(设计)人: | 任舰;苏丽娜;李文佳 | 申请(专利权)人: | 淮阴师范学院 |
主分类号: | H01L39/22 | 分类号: | H01L39/22;H01L31/101;G01J1/42 |
代理公司: | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人: | 明志会 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种单光子探测器,属于半导体器件技术领域。所述Si衬底上设置有SiO2势垒层,且SiO2势垒层上集成有库伦岛和太赫兹平面天线,所述太赫兹平面天线上设置有Al2O3势垒层和超导光子吸收薄膜。该单光子探测器利用半导体微纳加工技术制备硅基单电子晶体管,实现高灵敏的电荷探测结构,并在单电子晶体管的库伦岛附近实现基于超导隧道节的太赫兹光子‑电荷转换结构的高度集成,将基于超导体的光子‑电荷转换结构与超电荷高灵敏度的单电子晶体管读出电路相结合,实现超高灵敏度的太赫兹单光子探测器,从而推动太赫兹单光子探测器往更低频率和更高灵敏度发展。 | ||
搜索关键词: | 单电子晶体管 单光子探测器 势垒层 太赫兹单光子 电荷转换 高灵敏度 平面天线 光子 探测器 超导体 半导体器件技术 微纳加工技术 超高灵敏度 电荷探测 读出电路 高度集成 光子吸收 制备硅基 电荷 低频率 衬底 薄膜 半导体 灵敏 隧道 | ||
【主权项】:
1.一种单光子探测器,其特征在于:它包含Si衬底(1)、SiO2势垒层(2)、库伦岛(3)、太赫兹平面天线(4)、Al2O3势垒层(5)和超导光子吸收薄膜(6),所述Si衬底(1)上设置有SiO2势垒层(2),且SiO2势垒层(2)上集成有库伦岛(3)和太赫兹平面天线(4),所述太赫兹平面天线(4)上设置有Al2O3势垒层(5)和超导光子吸收薄膜(6)。
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