[发明专利]形成超高密度嵌入式半导体管芯封装的半导体器件和方法有效

专利信息
申请号: 201910119498.6 申请日: 2014-03-06
公开(公告)号: CN110010553B 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 林诗轩;陈泽忠;萧永宽;方金明;潘弈豪;廖俊和 申请(专利权)人: 长电集成电路(绍兴)有限公司
主分类号: H01L21/98 分类号: H01L21/98
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 陈岚
地址: 312000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及形成超高密度嵌入式半导体管芯封装的半导体器件和方法。半导体器件具有多个半导体管芯。第一预制绝缘膜被布置在半导体管芯上。在第一预制绝缘膜上形成导电层。在半导体管芯和第一预制绝缘膜上形成互连结构。在半导体管芯上层压第一预制绝缘膜。第一预制绝缘膜包括玻璃布料、玻璃纤维或玻璃填料。半导体管芯被嵌入第一预制绝缘膜内,其中第一预制绝缘膜覆盖半导体管芯的第一表面和侧表面。互连结构被形成在与第一表面相对的半导体管芯的第二表面上。在半导体管芯上布置第一预制绝缘膜之后,去除第一预制绝缘膜的一部分。在第一预制绝缘膜上布置第二预制绝缘膜。
搜索关键词: 形成 超高 密度 嵌入式 半导体 管芯 封装 半导体器件 方法
【主权项】:
1.一种制造半导体器件的方法,包括:提供第一增强绝缘膜;在所述第一增强绝缘膜上设置导电层;与所述导电层相对在所述第一增强绝缘膜上设置层压层;提供半导体管芯;将所述半导体管芯设置在载体上;在所述载体和所述半导体管芯上设置所述第一增强绝缘膜、所述导电层和所述层压层,所述层压层在所述半导体管芯上连续延伸;将所述第一增强绝缘膜和所述层压层层压在所述半导体管芯和所述载体上;以及与导电层相对在所述半导体管芯和所述第一增强绝缘膜上形成互连结构。
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