[发明专利]形成超高密度嵌入式半导体管芯封装的半导体器件和方法有效
申请号: | 201910119498.6 | 申请日: | 2014-03-06 |
公开(公告)号: | CN110010553B | 公开(公告)日: | 2023-05-09 |
发明(设计)人: | 林诗轩;陈泽忠;萧永宽;方金明;潘弈豪;廖俊和 | 申请(专利权)人: | 长电集成电路(绍兴)有限公司 |
主分类号: | H01L21/98 | 分类号: | H01L21/98 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 陈岚 |
地址: | 312000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及形成超高密度嵌入式半导体管芯封装的半导体器件和方法。半导体器件具有多个半导体管芯。第一预制绝缘膜被布置在半导体管芯上。在第一预制绝缘膜上形成导电层。在半导体管芯和第一预制绝缘膜上形成互连结构。在半导体管芯上层压第一预制绝缘膜。第一预制绝缘膜包括玻璃布料、玻璃纤维或玻璃填料。半导体管芯被嵌入第一预制绝缘膜内,其中第一预制绝缘膜覆盖半导体管芯的第一表面和侧表面。互连结构被形成在与第一表面相对的半导体管芯的第二表面上。在半导体管芯上布置第一预制绝缘膜之后,去除第一预制绝缘膜的一部分。在第一预制绝缘膜上布置第二预制绝缘膜。 | ||
搜索关键词: | 形成 超高 密度 嵌入式 半导体 管芯 封装 半导体器件 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造半导体器件的方法,包括:提供第一增强绝缘膜;在所述第一增强绝缘膜上设置导电层;与所述导电层相对在所述第一增强绝缘膜上设置层压层;提供半导体管芯;将所述半导体管芯设置在载体上;在所述载体和所述半导体管芯上设置所述第一增强绝缘膜、所述导电层和所述层压层,所述层压层在所述半导体管芯上连续延伸;将所述第一增强绝缘膜和所述层压层层压在所述半导体管芯和所述载体上;以及与导电层相对在所述半导体管芯和所述第一增强绝缘膜上形成互连结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造