[发明专利]图案特征的识别方法有效
申请号: | 201910121149.8 | 申请日: | 2019-02-19 |
公开(公告)号: | CN111580338B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 黄靖雅;洪佐桦 | 申请(专利权)人: | 华邦电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F7/20 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 罗英;臧建明 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种图案特征的识别方法,其识别结果应用于光学邻近效应校正,所述图案特征的识别方法包括提供多个具有参考图案特征的参考图像,再通过图像识别装置对参考图像进行识别与分类,并存储识别结果。然后,通过图像识别装置将具有实际图案特征的图像与存储的识别结果进行比对,以将具有实际图案特征的图像进行识别与分类。通过图像识别装置根据分类的结果来计算实际图案特征的角度特征值和/或距离特征值,以得到图案特征的识别结果。 | ||
搜索关键词: | 图案 特征 识别 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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