[发明专利]一种含有放大结构的柔性应变传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910125217.8 申请日: 2019-02-19
公开(公告)号: CN109827681B 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 聂萌;艾鹭;陈佳琦 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G01L1/14 分类号: G01L1/14;G01L1/18;G01L9/06;G01L9/12
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 211100 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种含有放大结构的柔性应变传感器及其制备方法,该传感器包括柔性基底、感应薄膜层和结构层;柔性基底的顶端表面设有中心凹槽和四个边缘凹槽,四个边缘凹槽成中心对称分布在中心凹槽的四周;边缘凹槽的长度方向与柔性基底的横向成夹角设置,且该夹角为锐角;感应薄膜层位于柔性基底的中心凹槽中;结构层含有四个结构柱,结构柱位于柔性基底的边缘凹槽中并与边缘凹槽一一对应。本发明柔性应变传感器通过放大结构对感压薄膜层放大拉伸,实现提高柔性应变传感器的灵敏度的目的。本发明制备方法,工艺流程简单,可行性高。
搜索关键词: 一种 含有 放大 结构 柔性 应变 传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种含有放大结构的柔性应变传感器,其特征在于,包括柔性基底(1)、感应薄膜层(2)和结构层(3);所述柔性基底(1)的顶端表面设有中心凹槽和四个边缘凹槽,四个边缘凹槽成中心对称分布在中心凹槽的四周;所述边缘凹槽的长度方向与柔性基底(1)的横向成夹角设置,且该夹角为锐角;所述感应薄膜层(2)位于柔性基底(1)的中心凹槽中;所述结构层(3)含有四个结构柱,结构柱位于柔性基底(1)的边缘凹槽中并与边缘凹槽一一对应。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910125217.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top