[发明专利]金属氧化物半导体晶体管及其制造方法有效
申请号: | 201910125919.6 | 申请日: | 2019-02-20 |
公开(公告)号: | CN111599860B | 公开(公告)日: | 2023-10-13 |
发明(设计)人: | 许祥华;黄良安;钟昇镇;郭镇铵;李秋德;王智充;陈广修;林克峰;李彦辉;胡凯婷 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L21/336 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开一种金属氧化物半导体晶体管,其包括基板。基板具有延伸于第一方向的多个沟槽在该基板的顶部。栅极结构线是在该基板上延伸于与该第一方向交叉的第二方向,且跨过该多个沟槽。第一掺杂线是在该基板中位于该栅极结构线的第一侧,跨过该多个沟槽。第二掺杂线是在该基板中位于该栅极结构线的第二侧,跨过该多个沟槽。 | ||
搜索关键词: | 金属 氧化物 半导体 晶体管 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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