[发明专利]一种利用高光谱成像技术识别稻田稗草的方法有效

专利信息
申请号: 201910126774.1 申请日: 2019-02-20
公开(公告)号: CN109765190B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 杨永杰;陆永良;唐伟;孙大伟;岑海燕 申请(专利权)人: 中国水稻研究所;浙江大学
主分类号: G01N21/27 分类号: G01N21/27
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 吴秉中
地址: 311400 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种利用高光谱成像技术识别稻田稗草的方法,属于稻田恶性杂草识别预警技术领域。其包括以下步骤:种植水稻和稗草种质资源;选取水稻和稗草通过高光谱成像系统进行光谱数据采集;将光谱数据作为模型输入变量,经过计算机软件的图像校准、图像处理,获得整片叶子的平均反射率,经过信号降噪后,选择特殊光谱从而建立判别模型;无人机搭载高光谱成像设备采集大面积稻区光谱数据,最后计算出稗草发生率评估危害程度。本发明采用高光谱成像技术鉴别稻田稗草,利用水稻和稗草光谱差异特性,区分稗草和水稻;筛选六个主要波谱特征减少计算准确率达98.1%,无人机搭载技术高空作业,能够大面积快速无损获取光谱数据结果。
搜索关键词: 一种 利用 光谱 成像 技术 识别 稻田 稗草 方法
【主权项】:
1.一种利用高光谱成像技术识别稻田稗草的方法,其特征在于包括以下步骤:S1.种植水稻和稗草种质资源,覆盖所测稻区的所有稗草和水稻品种;S2.选取水稻样本植株和稗草样本植株通过高光谱成像系统进行光谱数据采集;S3.将步骤S2中的光谱数据作为模型输入变量,采用计算机软件进行图像校准、图像处理,获得整片叶子的平均反射率,经过信号降噪后,利用光谱差异建立最小二乘法判别分析模型;S4.采用续投影算法SPA筛选出特殊光谱,增加计算速度;S5.无人机搭载高光谱成像设备采集大面积稻区光谱数据,计算机进行稻区光谱信息读取及处理,依据步骤S3中的最小二乘法判别分析模型来区分水稻、稗草或其他,最后计算出稗草发生率评估危害程度。
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