[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201910128015.9 申请日: 2019-02-20
公开(公告)号: CN110911401B 公开(公告)日: 2023-09-08
发明(设计)人: 东和幸;香西昌平 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L23/528;H01L23/48;H01J37/147
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的实施方式关于半导体装置。实施方式的半导体装置具备:第1半导体层;第2半导体层;第1多层布线层,设置在第1半导体层与第2半导体层之间,具有多个第1导电层;第2多层布线层,设置在第1多层布线层与第2半导体层之间,具有多个第2导电层;第1晶体管,具有第1半导体层中的第1杂质区域;第2晶体管,具有第2半导体层中的第2杂质区域;第1孔,将第1半导体层、第1多层布线层、第2多层布线层及第2半导体层贯通;第2孔,将第1半导体层、第1多层布线层、第2多层布线层及第2半导体层贯通;第1电极,设置在第1多层布线层中;及第2电极,设置在第1多层布线层中,夹着第1孔而与第1电极对置。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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