[发明专利]一种抗划伤扩散膜及其加工工艺有效
| 申请号： | 201910129340.7 | 申请日： | 2019-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN110007382B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 尹荣超;王宽宽;王图祥;边帅 | 申请（专利权）人： | 合肥翰博星辰高新材料有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 张玺 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥市新站*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗划伤扩散膜，包括基材层，所述内粒子的粒径为1.5μm至2.5μm；所述中粒子的粒径为8μm至12μm；所述外粒子的粒径为18μm至25μm；所述内粒子、中粒子以及外粒子每立方微米的分布密度比为15：6：1。本发明在基材层上方依次设置有粒径依次增大的粒子，也就使得第三光扩散层在受到划伤的时候，准确划伤到外粒子的可能性降低，大大保护扩散膜的扩散功能，非常有效；在基材层上方设置有三层光扩散层，使得外部划伤不会很容易的就直接穿过三层光扩散层，使得光更加不容易不发生扩散作用就直接穿过扩散膜，极大程度上保证对光的扩散作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 划伤 扩散 及其 加工 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种抗划伤扩散膜，包括基材层(1)，所述基材层(1)下方设置有防粘接层(6)，其特征在于：所述基材层(1)上方依次设置有第一光扩散层(2)、第二光扩散层(3)以及第三光扩散层(4)；第一光扩散层(2)包括内粒子(21)、树脂成膜物(5)、交联剂以及溶剂，所述内粒子(21)的粒径为1.5μm至2.5μm；第二光扩散层(3)包括中粒子(31)、树脂成膜物(5)、交联剂以及溶剂，所述中粒子(31)的粒径为8μm至12μm；第三光扩散层(4)包括外粒子(41)、树脂成膜物(5)、交联剂以及溶剂，所述外粒子(41)的粒径为18μm至25μm；所述内粒子(21)、中粒子(31)以及外粒子(41)每立方微米的分布密度比为15：6：1。
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